簡要描述:Hellma CaF 2氟化鈣用于紫外的光學材料Hellma Materials CaF 2 多年來一直被用作半導體生產微光刻中的光學關鍵材料。CaF 2 被確立為投影和照明光學器件中準分子激光光學器件的行業(yè)標準材料。CaF 2的光學特性可實現(xiàn)各種高級應用。
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Hellma CaF 2氟化鈣用于紫外的光學材料
CaF 2用于紫外/可見光/紅外應用的光學材料
Hellma Materials CaF 2 多年來一直被用作半導體生產微光刻中的光學關鍵材料。CaF 2 被確立為投影和照明光學器件中準分子激光光學器件的行業(yè)標準材料。CaF 2的光學特性可實現(xiàn)各種高級應用。
應用領域
由于其好的光學質量以及在紫外、可見光和紅外光譜范圍內出色的透射率
Hellma Materials CaF 2 可用于多種應用:
紅外光學器件
天文儀器光學
天基光學
顯微鏡光學器件
光譜光學
紫外光學
激光窗
準分子激光光學
微光刻光學
氟化鈣單晶由高純度原材料生長而成,是 248 和 193 nm 微光刻技術中照明和投影光學所需的材料。Hellma Materials 的專業(yè)知識允許制造直徑高達 440 毫米、厚度超過 100 毫米且最高厚度的 CaF 毛坯。傳輸波長低至 157 nm。
主要質量特性包括:
優(yōu)異的紫外線透射率
高激光耐久性
低應力雙折射
高折射率均勻性
優(yōu)點
Hellma Materials 的Lithotec ® CaF 2具有奇特的光學特性:
從深紫外到紅外(130nm 到 8μm)的高寬帶透射率
低折射率(n d = 1.43384)
低光譜色散 (v d = 95.23)
準分子激光光學元件(157nm、193nm、248nm)具有出色的激光耐久性
合格的抗高能粒子和輻射能力
直徑可達 420 毫米
CaF 具有高的激光耐久性,使其成為光刻準分子激光光學器件、光束傳輸以及各種其他應用中所有準分子波長的首要選擇材料。
合成氟化鈣晶體完善了從 VUV 到 IR 的光學材料應用范圍,在 130 nm 到 9 pm 范圍內具有非常好的透射率。
氟化鈣色校正光學系統(tǒng)在天文學、攝影、HDTV 變焦鏡頭中也能實現(xiàn)光學性能的優(yōu)勢。如在顯微鏡中,進一步的應用是傳感器(尤其是紅外光譜)、光譜儀和醫(yī)用激光器。
Hellma Materials 提供具有不同晶體取向 [<111>、<100>、隨機或其他要求] 的 CaF、組件和毛坯,以及不同的表面質量(原始、切割研磨或拋光),具體取決于個人要求。
Hellma CaF 2氟化鈣用于紫外的光學材料